東京真空は、常に真空技術の研究開発を怠ることなく独創的技術を磨き、広く産業界に奉仕するため懸命の努力を続けています。

商品情報

新素材・新機能材 | 新表面・新表面改質

隔離加熱・差動排気方式

VDS型真空・雰囲気高温炉1,400℃

VDS-1015 / VDS-2030

DEVICE INFORMATION

VAPOR DEFENCE SYSTEM

高蒸気圧試料から炉体・ヒーターを保護します

Se、Te、Sbなど高蒸気圧物質含有試料の溶解、熱処理

Zn、Cd含有フラックス真空ロー付、封着、接合

SmCo、NdFe系合金燒結

VACUUM DIFFERENTIAL SYSTEM

高蒸気圧試料から炉体・ヒーターを保護します

Se、Te、Sbなど高蒸気圧物質含有試料の溶解、熱処理

Zn、Cd含有フラックス真空ロー付、封着、接合

SmCo、NdFe系合金燒結


特長

2つのVSD

VAPOR DEFENCE SYSTEM

VACUUM DIFFERENTIAL SYSTEM

を組み合わせるという新しい手法を開発。処理試料、処理条件の範囲が大幅に広がりました。
試料、ご使用目的に応じ、標準仕様に下表オプション項目を組み合わせたイージーオーダー方式の製作もできます。

VSD

性能・仕様

型 式 VDS-1015型 VDS-2030型
炉体構成 炉体・ヒーター、隔離試料加熱室間 隔壁分離型、差動式高真空排気系
システム たて型2室構成、急速加熱、急速冷却(兼試料予備排気)方式
加熱方法 モリブデン抵抗体(隔壁付)200V、3P、20kVA モリブデン抵抗体(隔壁付)200V、3P、42kVA
温 度 最高1,400℃(真空状態)、1,300℃(不活性ガス雰囲気)
均熱部寸法 Φ100×150H Φ200×300H
均  熱 ±4℃ ±5℃
温度制御 デジタルプログラムPID温度指示調節計、記録計付
加熱速度 0.1℃〜20℃/min 0.1℃〜10℃/min
冷却速度 冷却ファンによる強制冷却又は自然冷却
雰囲気 Ar、N2封入自動保圧又は
通気約 1 l/min
Ar、N2封入自動保圧又は
通気約 2 l/min
真 空 10-2〜10-5Pa
排気系
ガス導入系
(手動)
1.ターボ分子ポンプ排気系
2.油拡散ポンプ排気系
3.メカニカルブースタポンプ
  から選択(補助ポンプ系付)
真空計 電離真空計又はペニング真空計、ピラニ真空計、連成計
ユーティリティ 電力 200V、3P、28kVA
冷却水 25℃、0.1〜0.4MPa、
20 l/min
電力 200V、3P、54kVA
冷却水 25℃、0.1〜0.4MPa、
60 l/min
据付寸法 1,600W×1,000D×2,000H 4,000W×1,900D×4,200H
オプション 全自動シーケンス制御機構(温度、真空度)、真空度自動制御装置
全自動真空排気系、自動差圧制御機構
自動ガス導入系、ガス流量自動制御機構(マスフローメーター)
対H2安全機構、大容量排気系横型方式

営業品目

真空コンポーネント
ロータリーポンプ、油拡散ポンプ、真空バルブ、真空計、真空部品
真空装置
●冶金装置
焼結、ホットプレス、ロー付、熔解鋳造、焼鈍、焼入、熱処理、
アーク・プラズマ・EB応用炉、結晶製造精製
真空コンポーネント
蒸着、スパッタ、イオンプレーティング、PVD、CVD
真空コンポーネント
排気セット、材料試験、特注装置