東京真空は、常に真空技術の研究開発を怠ることなく独創的技術を磨き、広く産業界に奉仕するため懸命の努力を続けています。

商品情報

新素材・新機能材 | 新表面・新表面改質

前面扉開閉型、イージーローディング

高温真空雰囲気引張試験装置

VEF-1000

DEVICE INFORMATION
本装置は、引張試験片を真空及び不活性ガス雰囲気中に於いて高温で均一に加熱し、高温に於ける試料の伸び試験を行うものである。
雰囲気は真空を基本とするが、Ar、N2等の不活性ガス雰囲気下での使用も可能です。

特長

前面扉全開方式によるイージーローディング方式
汎用標準規格装置、低価額、短納期

引張試験機への組込み機能
高真空排気機能
不活性ガス雰囲気導入機能
高温度昇温機能
温度プログラム制御機能
系統図

性能・仕様

型 式 VEF-1000型
真空度 到達10-4Pa(常温、空積)、常用10-3Pa
排気速度 大気圧→10-3Pa/30min(常温、空積)
排気系 65A(2.5インチ)油拡散ポンプ排気系
温 度 最高1000℃ (真空、空積)
常用800〜900℃(真空、Arガス)
均熱部温度 1000℃±5℃(真空、空積)
加熱速度 最大20℃ /min
温度制御 熱電対検知に依るPIDプログラム制御
試験片引張圧力 490N/mm2(500MPa)
冷却方式 自然冷却及びガス導入冷却
許容リーク量 10-2lusec以下
有効均熱部 Φ50×400L
加熱方式 抵抗加熱方式(プログラム設定に依る自動昇降温)、
3分割マスタースレーブ方式
加熱ヒーター Moより線ヒーター
引張試験機 AG-50kNG
引張ストローク 400mm
雰囲気 高真空、不活性ガス(Ar)
炉内雰囲気ガス圧 使用雰囲気ガス圧0.01〜0.03MPa以下、
最大雰囲気ガス圧0.04MPa
導入ガス量 常用3リットル/min以下(ガスフロー時)
記 録 100mm幅、2ペン記録計、CH1…真空度(電離真空計)、
CH2…制御温度(中)
処理量 引張試験片1本/1チャージ
運転操作方式 手動操作
安全対策 断水警報、過昇温警報
試料装着 前扉開閉式
作業サイクル 約8時間/サイクル/day
設置面積 約2110W×1200D×2875H

営業品目

真空コンポーネント
ロータリーポンプ、油拡散ポンプ、真空バルブ、真空計、真空部品
真空装置
●冶金装置
焼結、ホットプレス、ロー付、熔解鋳造、焼鈍、焼入、熱処理、
アーク・プラズマ・EB応用炉、結晶製造精製
真空コンポーネント
蒸着、スパッタ、イオンプレーティング、PVD、CVD
真空コンポーネント
排気セット、材料試験、特注装置