東京真空は、常に真空技術の研究開発を怠ることなく独創的技術を磨き、広く産業界に奉仕するため懸命の努力を続けています。

商品情報

VLSI・光半導体 | 宇宙・核融合用材 | 新素材・新機能材
新表面・新表面改質

高速スパッタリング装置

SUPER-COAT series N型コンパクト・ハンディー装置 S型ハイグレード実験・生産装置

SUPER-COAT N250 / N400 / S600 / S600C


特長

N型の特長

スーパーコンパクト、スーパーエコノミック
蒸着装置兼用
ハンディな操作性
安定した放電(異常放電防止回路付)
豊富なオプション(仕様表参照)

S型の特長

精密実験、中規模生産装置兼用
手軽に多層膜生成(3ターゲット)
クリーンバキューム(ターボ分子ポンプ又はクライオポンプ)
高真空/クリーンンバキュームのための回転導入部ガード排気
「DRY-CARRY SYSTEM」装置(S600C)
(実用新案出願中)
チャンバーベーキングによる高真空/クリーンバキューム
豊富なオプション
スパッタ専用膜厚モニタによる膜厚制御
アルファモス薄膜生成装置
その他(仕様表参照)
SUPER-COAT series

性能・仕様

N型式 SUPER-COAT N250 SUPER-COAT N400
ターゲット 高速マグネトロンカソード(磁性体用はオプション)
サイズ Φ80
個 数 1個 3個
基盤ホルダー Φ100 Φ320
回 転 0〜50rpm
冷 却 水 冷
加 熱 最高350℃ 常用300℃
逆スパッタ
バイアス電圧
DC電源 1.2kW 2kW
RF電源 300W★ 1kW★
到達圧力
 (無負荷時)
7×10-4Pa以下 10-5Pa台
排気時間 7×10-3Paまで約10分 7×10-4Paまで約10分
排気系 2.5B DP.手動 6B DP.手動
オプション ターボ排気系★ 自動排気系★
クライオ★
ターボ分子ポンプ排気系★
ガス導入系 ニードル弁、ストップ弁一式 Arガス用マスフローコントローラー、
ストップ弁一式
Nガス用ストップ弁一式
電 気 Φ1 AC100V
3.5kVA 一式
Φ3 AC200V
15kVA 一式
冷却水
 (25℃以下0.2〜0.5MPa)
5l/min 12l/min
空 圧
 (0.3〜0.5MPa)
5l/min
その他 蒸着用電極2対
蒸着用電源20V・30A
蒸着用ジンバル装置
蒸着用電極2対
蒸着用電源30V・100A
★膜圧モニター(スパッタ専用)
★シャッタ自動制御
★逆スパッタ機構
★バイアス電位印加
★自動圧力コントロール
 (マスフローコントローラー、サーボ機構真空弁)
★アモルファス薄膜生成用機構
★超伝導膜生成用機構
S型式 SUPER-COAT S600 SUPER-COAT S600C
ターゲット 高速マグネトロンカソード(磁性体用はオプション)
サイズ Φ127
個 数 3個
基盤ホルダー Φ320
回 転 0〜50rpm
冷 却 水 冷
加 熱 最高350℃ 常用300℃
逆スパッタ
バイアス電圧
DC電源 2kW
RF電源 1kW★
到達圧力
 (無負荷時)
1.5×10-5Pa
排気時間 7×10-5Paまで約30分
排気系 8B クライオポンプ手動
オプション 自動排気系★ クライオ★ ターボ分子ポンプ排気系★
ガス導入系 Arガス用マスフローコントローラー、
ストップ弁一式
Nガス用ストップ弁一式
電 気 Φ3 AC200V 15kVA 一式
冷却水
 (25℃以下0.2〜0.5MPa)
20l/min
空 圧
 (0.3〜0.5MPa)
5l/min
その他 真空層のベーキング機構 ターボ分子ポンプ付
基板挿入室自動搬送機構
「DRY-CARRY SYSTEM」
★膜圧モニター(スパッタ専用)
★シャッタ自動制御
★逆スパッタ機構
★バイアス電位印加
★自動圧力コントロール
 (マスフローコントローラー、サーボ機構真空弁)
★アモルファス薄膜生成用機構
★超伝導膜生成用機構

営業品目

真空コンポーネント
ロータリーポンプ、油拡散ポンプ、真空バルブ、真空計、真空部品
真空装置
●冶金装置
焼結、ホットプレス、ロー付、熔解鋳造、焼鈍、焼入、熱処理、
アーク・プラズマ・EB応用炉、結晶製造精製
真空コンポーネント
蒸着、スパッタ、イオンプレーティング、PVD、CVD
真空コンポーネント
排気セット、材料試験、特注装置